货号 |
编号 |
参数 |
库存 |
价格 |
101108 |
MK1368 |
5X5X0.5 mm-<100>-单抛光 |
100 |
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101108 |
MK1368 |
5X5X0.5 mm-<110>-单抛光 |
100 |
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101108 |
MK1368 |
5X5X0.5 mm-<111>-单抛光 |
100 |
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101108 |
MK1368 |
10X5X0.5 mm-<100>-单抛光 |
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MK1368 |
10X5X0.5 mm-<110>-单抛光 |
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101108 |
MK1368 |
10X5X0.5 mm-<111>-单抛光 |
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MK1368 |
10X10X0.5 mm-<100>-单抛光 |
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MK1368 |
10X10X0.5 mm-<110>-单抛光 |
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MK1368 |
10X10X0.5 mm-<111>-单抛光 |
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MK1368 |
其他尺寸定制 |
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简要介绍 氧化镁(MgO)单晶基片广泛应用在多个薄膜技术领域中。如用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜和高温超导薄膜等。由于MgO单晶在微波波段的介电常数和损耗都很小,且能得到大面积的基片(直径2英吋及更大),所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。 可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。具有很大的现实及潜在应用市场。 衬底照片:
详细参数: 主要性能参数 | 生长方法 | 弧熔法 | 晶体结构 | 立方 | 晶格常数 | a=4.130 埃 | 熔点(℃) | 2800 | 纯度 | 99.95% | 密度(g/cm3) | 3.58 | 硬度 | 5.5(mohs) | 热膨胀系数(/℃) | 11.2x10-6 | 晶体解理面 | <100> | 光学透过 | >90%(200~400nm),>98%(500~1000nm) | 介电常数 | ε= 9.65 | 热导率(卡/度 厘米 秒) | 0.14 300°K | 尺寸 | 10x3,10x5,10x10,15x15,,20x15,20x20, | dia2” x 0.33mm
dia2” x 0.43mm 15 x 15 mm | 厚度 | 0.5mm,1.0mm | 抛光 | 单面或双面 | 晶向 | <001>±0.5o | 晶面定向精度: | ±0.5° | 边缘定向精度: | 2°(特殊要求可达1°以内) | 斜切晶片 | 可按特定需求,加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜(倾斜角1°-45°)的晶片 | Ra: | ≤5埃(5μm×5μm) | 主要特点 | 由于MgO单晶在微波波段的介电常数和损耗都很小,且能得到大面积的基片(直径2英吋及更大),所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。 | 主要用途 | 用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜和高温超导薄膜等,也可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。 | 包装 | 100级洁净袋,1000级超净室 |
产品常规分类:
商品名称 | 商品编码 | 货号 | 尺寸(mm) | 晶向 | 抛光 | MgO
| MK1368 | 101108
| 5X5X0.5 | <100> | 单面抛光 | 5X5X0.5 | <110> | 单面抛光 | 5X5X0.5 | <111> | 单面抛光 | 10X3X0.5 | <100> | 单面抛光 | 10X5X0.5 | <100> | 单面抛光 | 10X5X0.5 | <110> | 单面抛光 | 10X5X0.5 | <111> | 单面抛光 | 10X10X0.5 | <100> | 单面抛光 | 10X10X0.5 | <110> | 单面抛光 | 10X10X0.5 | <111> | 单面抛光 | Φ2"X0.5 | <100> | 单面抛光 |
其他信息: 询问
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